度，通常有两种情况。
一种是体系气密性不好，比如在关舱门时，门缝处夹了一个塑料膜；
另一种是舱体内蒸镀残留物过多，需要清理。”
虽然系统里也有影像资料供许秋学习，但他觉得还是听学姐讲解更舒服一些。
而且两个人站一起一直不互动也蛮尴尬的。
……
一小时后。
真空计示数达到5.2E-5帕，升温程序也进入第二阶段，一切正常。
十二分钟后。
温度示数达到400摄氏度，膜厚仪显示的实时蒸镀速率，在-0.01至0.01埃每秒之间波动，膜厚显示仍为0.00埃。
三分钟后。
温度示数继续增加，直至480摄氏度左右，蒸镀速率开始在0.00至0.03埃每秒之间波动。
当温度达到520摄氏度后，蒸镀速率维持在0.20至0.30埃每秒。
许秋先开启样品台旋转，在等待了约十秒钟后，同时打开样品挡板并将膜厚仪的膜厚计数器归零。
钙要蒸镀10纳米的厚度，也就是100埃。
待膜厚仪示数达到100埃时，许秋迅速关闭样品挡板。
随后，他将束源炉升温数控装置关闭，让束源炉自然降温。
最后，将膜厚仪的参数改为铝的参数。
半小时后。
束源炉的温度降低至77摄氏度
第二十一章 真空镀膜（下）(4/7)