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第二十章 真空镀膜(上)
秋首先在钨篓中装满99.995%纯度的铝锭,然后让学姐帮忙打开钙束源炉的挡板。

    挡板的开关是数控的,需要在手套箱外的总控台操作。

    打开挡板后,他取出束源炉内部的陶瓷坩埚,将上次使用后剩余的残渣倒出,再加入两勺新的99.995%纯度的钙粉末。

    陶瓷坩埚是特质的,可以至少承受1000摄氏度以上的高温,且十分稳定,不会与靶材反应,产生杂质。

    完成后,他让学姐关闭束源炉挡板。

    最后,将一片片基片正面朝下放置在样品支架上,再将样品支架放回样品台。

    “学姐,没有问题吧。”许秋看向陈婉清。

    “嗯嗯。”陈婉清点点头。

    许秋将舱门从右往左推回原位,然后旋转舱门上下的两个旋钮,直至无法转动。

    他离开手套箱,跟随学姐来到总控台,剩下的操作主要在总控台完成。

    总控台接近两米高,由多个模块拼接而成,一共有30多个控制按钮。

    陈婉清道:“旁边有操作说明,严格按照说明来做就行。”

    许秋拿起《真空镀膜仪使用说明》翻看,只有两页A4纸,并没有想象中的多。

    他表面上在看说明书,实则在心中查看系统。

    系统已经将学姐的技能复制了,可以看到每步操作的细节,所以文字版的说明书意义已然不大。

    “我看完了。”许秋道。


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