全球前三。
中微半导体的介质刻蚀机更是胜过美国人的产品进入台积电7nm、10nm的生产线，甚至已经具备了5nm工艺制造技术。
也正因为李秀成清楚蚀刻机发展的始末，知道有哪些最关键的人才和技术，才这么有把握让机械厂进入这一行，并做出成绩。
相比蚀刻机的优秀表现，光刻机方面就真的是一言难尽了，21年时，有国家院士说过，我国光刻机方面与外国先进的相比差距在15-20年。
但许多人都不知道的是，在最开始国内光刻机技术与国外差距并不大，在85年时国家研究所研制出的分步光刻机样机与美国4800DSW的水平相差不到7年。
7年与20年相比，这中间的差距多大？在这个全民奋进，英模呕心沥血创奇迹的年代真不算大！
但没过多久，随着大量引进外资，一个‘造不如买’的畸形观念悄悄的观变了人们的思想，然后就是‘造导弹的不如卖茶叶蛋的’可笑价值观出现了。
最终的结果就是包括光刻机、大飞机在内的许多原本有望在短期内追赶上发达国家水平的关键技术陷入停滞状态！
而这一停滞就是近二十年！
二十年啊！
还是在技术大爆发、经济市场开放最关键的二十年！所造成的损失已经无法估量，哪怕后来人们意识到问题，开始奋起直追，但所付出的代价却已经是千倍万倍。
刚才李秀成说第三点没想好其
第143章 光刻机(2/5)