rF准分子激光，的第四代光刻机。
所以光源上的理论还有所生疏，而且德国那边的仪器，他们给的不是最先进的那一款，还有储存环，我们国内的不是很……。”
顾青表示理解，叹了口气道：“这很正常，要达到国际先进水平不容易，但是我们还有一个研究部门正在进行改造，不论是仪器和储存环，这个月底就会给你们。
ASML1公司采用的是高能脉冲激光轰击液态锡靶，形成等离子体然后产生波长13.5纳米的EUV光源，功率约250瓦。
随着芯片工艺节点的不断缩小，对EUV光源功率的要求也将不断提升，估计会达到千瓦量级。
而基于SS1MB的EUV光源有望实现更大的平均功率，并具备向更短波长扩展的潜力，所以咱们这个SS1MB光源的前景是可以确定的。
你们别慌，前期的理论功课做好了，下个月的落地实验才会走得稳。”
李由点头笑了笑，“我知道，我们这边的研发人员每天都在生产工作完成后加班学习，咱们自己人干活，不需要看外人的表情，所以大家的动力都很足。”
顾青本来还想再聊一会儿，但是董琦的电话突然打了过来。
嗯，准确来说是打给半导体部门的办公室管理，然后找到的顾青。
顾青接过递来的电话。
“找我有事？”
“顾总，顾哥，我们的电话都快被打爆了！
除
第156章 光源与波澜(4/5)