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科技最巅峰

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第129章 DUV光刻机
在于10纳米以下,那么我们就必须要考虑极紫外光了,也就是所谓的EUV光刻机。”

    “不过……”说到这里,小芳撇了撇嘴巴:“以我们的光刻机进展速度,距离制造EUV光刻机最起码还需要三年呢!”

    听后王昊天点了点头,现在他的目标就是制造45纳米的光刻机,现在上城微电子设备公司已经可以可以量产90纳米的光刻机了。

    从90纳米的光刻机提升到62纳米的光刻机难道是不大的,可以这么说,从90纳米提升精度,只要不到45纳米都是比较容易做到的,一直到45纳米这是一个技术关卡!

    至于45纳米之后还有28纳米的,26纳米的,22纳米的……一直到10纳米,7纳米,5纳米等等……

    目标我们这颗星球上能实现量产的也就是5纳米的罢了!

    小芳继续说道:“ArF准分子激光被激光发射器发射出来之后,光束有些偏差,这个时候必须经过光束矫正器进行矫正,你们星球上一般需要3个光束矫正器才能矫正出来自己需要的,而我在你们技术上经过改良优化,现在仅仅需要两个光束矫正器就可以了。”这里小芳有些得意,好像自己进行了降维打击。

    “还有,被矫正的光束能量还需要控制,这时候就需要能量控制器了,我们可以依靠能量控制器,控制光束之中的能量大小,我们想要大就要大,想要小就要小,完全在我们的掌控之中呢!”

    “能量大小被我们控制了之后,我

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