骛的原因。
只不过后来……就不说了。
被EUV联盟排除在外，尼康自然不会甘心——只要是个人都不会甘心的。因此，尼康便火速上马了157nmF2准分子激光——或者说，加大了投入力度。
毕竟，目前193nmArf的极限早已被算得不能再算——它无法延伸到65nm节点。或者说，就算勉强能过通过工艺手段实现65nm，那成本也会堪比天价。
如今五年过去，就算进展再慢，尼康这边的F2光源也看到了成功的曙光。
山上一郎承认，依靠着此前双工件台的先发技术优势，大陆的宏芯一举崛起，拿下了诸多中低端需求的订单和市场。但随着各方力量的介入，大陆的首都精密也在不到一年之内就放开了渠道。
这让尼康瞬间重回巅峰。
但大陆的光刻机，有个天然的问题——技术沉淀。
长久以来的封锁和落后，使得其在光源，镜头，精密零部件的设计和制造等领域均落后于人——即便宏芯享受到了双工件台提前一年的福利，他们依旧无法在高端光刻市场造成本质上的威胁。
如今，光刻机市场已经呈现出了明显的两种选择。
一条路是以尼康和佳能为首，主要瞄准157nm，稳扎稳打地为晶圆厂提供有力的武器。
而另外一条，则是以荷兰的ASML为主，打算一步到位，直奔EUV这个目前理论上的终极光源。
现在看来
第865章 一个好消息(4/5)