.35μm节点。
一九九零年代，n一九九五年，o着手300mm晶圆曝光机，推出EX3L和5L步进机，ASML推出FPA2500，193nm波长步进扫描曝光机。光学光刻分辨率到达70nm的“极限”。
光刻技术与我们的生活息息相关，我们用的手机，电脑等各种各样的电子产品，里面的芯片制作离不开光刻技术。
如今的世界是一个信息社会，各种各样的信息流在世界流动。而光刻技术是保证制造承载信息的载体，在社会上拥有不可替代的作用。
二零零零年以来，在光学光刻技术努力突破分辨率“极限”的同时，NGL正在研究，包括极紫外线光刻技术，电子束光刻技术，X射线光刻技术，纳米压印技术等。
与此同时，河兰光刻机巨头阿斯慢，占据了63%的市场份额，产品集中在中高端的极紫外光刻EUV和深紫外光刻DUV上。
然而在二零零四年前，尼糠是当之无愧的带头大哥，不仅让阿斯慢稳坐屌丝之位，甚至让花旗国这个光刻机技术鼻祖，逐步退出了半导体用光刻机的市场。
彼时傲娇的尼糠，一直将光刻机作为自己的核心产品，也是让岛国企业引以为傲的“民族之光”，甚至当年能到尼糠从事光刻机的研发，一度成为众多岛国大好青年的愿景。
再看阿斯慢的基础并不好。从一九八四年诞生后的二十年，阿斯慢就一直是一个谜一样的存在，没有什么人会觉得。阿斯慢能够有
第一百六十五章：一场赌局即将开始（求订阅！求月票！）(3/5)