在80年代，欧美日等等国家拥有超过百家以上的企业，都是具备能力研发和生产光刻机的，甚至，就连东德曾经也是光刻机市场上的供应商。
而进入90年代之后，大量的光刻机厂商开始掉队落后。欧洲的asl在90年代初，市场占有率也不是那么高，甚至技术也不是太先进。真正让这家公司爆发，则是后来2002年，率先采用了193n浸入式光刻机。一开始，193n浸入式光刻机并未真正的领先，一直到2004年，才是利用193n浸入式光刻机，做到了90纳米加工精度。随后，渐渐的突破65纳米、40纳米、28纳米，让非浸入式光刻机望尘莫及！
尤其是，28纳米时代，更是让非浸入式光刻机厂商绝望，甚至，已经放弃了继续研发投入，因为，不可能追赶浸入式光刻机。
也正是因为在关键性的技术节点上，选对了方向。所以，asl公司在21世纪初，独霸光刻机市场。
而佳能和尼康等等竞争对手，后来废了老大的劲，也很制造28纳米级别精度的光刻机，更何况，asl公司并未停止进步，反而不断将精度从28纳米之后，继续向20纳米、14纳米、12纳米、10纳米、7纳米，不断的提升。
其他的光刻机厂商，后来跟asl的差距逐渐被拉大到十年以上。除非等到asl专利过期，并且，未来工艺水平会长期停滞，否则，被技术差距被拉大到十年以上的程度的业界同行，基本没有可能抢回市场。
第808章 正确的技术路线(4/5)